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本文標(biāo)題:"電子探針X射線微區(qū)分析儀兼具顯微化學(xué)分析及光學(xué)顯微鏡之功能"

發(fā)布者:yiyi ------ 分類: 行業(yè)動(dòng)態(tài) ------ 人瀏覽過(guò)-----時(shí)間:2012-6-21 18:5:31

 電子探針X射線微區(qū)分析儀兼具顯微化學(xué)分析及光學(xué)顯微鏡之功能。

對(duì)顯微分析又兼有定性與定量分析之能力。對(duì)固態(tài)元素定性與定量分析,適用于Z>11(Na),分析能力約為 100ppm,解析范圍約為1um。單獨(dú)作定性分析可測(cè)至Z>5(B)。通常EPMA同時(shí)附設(shè) WDS及EDS之偵測(cè)設(shè)備,兩者功能可以利弊互補(bǔ),WDS 解析敏度為100ppm; EDS則為 1000ppm (0.1wt%)。在重元素材質(zhì)中含有輕元素時(shí),解析度則更差。EPMA 之電子束涵蓋試片面積,直徑約為1um,電子貫穿試片深度亦約為lum。
 
         作定量分析時(shí),試片必須磨平,材料之破裂斷面以及基材內(nèi)含有不規(guī)則形狀之顆粒,EPMA 雖也能分解,但精度較差EPMA是有多種功能的顯微分析工具。它特別適用于:(1)微組織內(nèi)含有個(gè)別相的成份分析 ; 譬如鋼鐵合金內(nèi)之析出物,第二相等。(2)晶界間成份梯度之變化及分佈狀態(tài)。(3)個(gè)別相組織內(nèi)成份均勻或不均勻之分佈狀況(在lum范圍內(nèi))。以及(4)非均勻元素分佈圖 (mapping) 之測(cè)定等。

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