本文標(biāo)題："熔覆涂層激光重熔-分析圖像顯微鏡常識(shí)"
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熔覆涂層激光重熔-分析圖像顯微鏡常識(shí)
綜合分析本節(jié)內(nèi)容可以發(fā)現(xiàn)，在激光熔覆+重熔制備鎳基非晶
復(fù)合涂層時(shí)，前驅(qū)工藝(熔覆)和后續(xù)工藝(重熔)是相輔相成的，
當(dāng)激光熔覆功率增加造成稀釋率較大時(shí)，即使激光重熔時(shí)激光掃
描速度較大也不能形成非晶相；同時(shí)，即使激光功率適中，激光
重熔時(shí)掃描速度較小時(shí)也不能形成非晶相。總之，制備非晶復(fù)合
涂層時(shí)，前驅(qū)工藝和后續(xù)工藝具有協(xié)同效應(yīng)，不能僅考慮一方面
的作用。
在熔覆層良好成形的基礎(chǔ)上(熔覆層具有一定的高度并且其稀
釋率較低)，對(duì)所得熔覆涂層進(jìn)行激光重熔，重熔時(shí)為獲得較深的
重熔層深度和重熔后液態(tài)合金的冷卻速度。在重熔時(shí)，選用的激
光功率為3 500 w(激光器的最大輸出功率，功率密度為53 000 W
／cm2)，重熔時(shí)選用掃描速度為4～9 m／rain。
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