本文標(biāo)題："石墨檢測(cè)顯微鏡-光學(xué)儀器小常識(shí)"

石墨檢測(cè)顯微鏡-光學(xué)儀器小常識(shí)

以顯微拉曼光譜儀研究單層、雙層及多層(小于10 層)石墨烯的氫化反應(yīng)。
氫化石墨烯，亦被稱為石墨烷，是由石墨烯經(jīng)由氫化反應(yīng)轉(zhuǎn)變而成，

為一具有能隙之新材料。我們以機(jī)械剝離法制備石墨烯，并使用射頻氫氣電漿使石
墨烯進(jìn)行氫化反應(yīng)，再觀察氫化反應(yīng)前后石墨烯拉曼光譜之變化。

經(jīng)過氫氣電漿處理，石墨烯之拉曼光譜除了原有的特征峰值
(G peak 及2Dpeak)，還會(huì)出現(xiàn)晶格缺陷所導(dǎo)致的D peak，

我們認(rèn)為可還原的D peak 與氫化反應(yīng)有關(guān)，故我們以可還原的D peak 強(qiáng)度判斷氫化反應(yīng)的程度，
D peak 與氫化反應(yīng)的關(guān)系我們將于論文中說明。我們發(fā)現(xiàn)除了單層石墨烯可被氫化之外，
雙層石墨烯，甚至多層石墨烯(小于10 層)亦可被氫化，層數(shù)不同的石墨烯其氫化條件
并不相同，層數(shù)較少的石墨烯較容易被氫化。

我們以改變氫氣電漿處理時(shí)間作為氫化條件的改變，
我們發(fā)現(xiàn)層數(shù)較多的石墨烯需要更長(zhǎng)的處理時(shí)間才能達(dá)到氫化的目的。
展現(xiàn)了氫化反應(yīng)的復(fù)雜性，這些影響的因素是在對(duì)石墨烯進(jìn)
行化學(xué)修飾(chemical functionaliztion)時(shí)不可忽略的

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