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本文標題:"制作高數值孔徑的微透鏡-灰階微透鏡之掃描式電子顯微鏡"

發布者:yiyi ------ 分類: 行業動態 ------ 人瀏覽過-----時間:2013-3-6 5:7:50

 制作高數值孔徑的微透鏡-灰階微透鏡之掃描式電子顯微鏡

 
 
1.利用八階微透鏡的光罩與負光阻,可制作出凹透鏡以及凹面
鏡,因此可以利用凹面鏡的功用以取代凸透鏡和鏡子組合的
功用,目前已做了光阻、矽基板與石英基板的蝕刻速率之量
測,以幫助未來蝕刻之條件。
 
2.利用較高的折射率的材料如鈮酸鋰(LiNbO3)等,就可制作出
數值孔徑較高的微透鏡。由于我們使用高折射率的材料的目
的是要改善數值孔徑,由于繞射式平凸透鏡的 NA 值最大值
可達到 n-1,石英基板的折射率 n 為 1.5,所以以石英為基板
之繞射式元件的數值孔徑最大值可達到 0.5﹔而鈮酸鋰的折射率 n 為 2.1~2.3,
所以以鈮酸鋰為基板的微透鏡其數值孔徑最
大值可到 1.1~1.3,因此若我們將元件的材質改為鈮酸鋰的
話,我們將可制作高數值孔徑的微透鏡﹔
 
而且未來 CD-ROM或是 DVD-ROM 讀寫頭所用的聚焦透鏡之數值孔徑也將會達
到 0.6~0.8,因此由石英基板所制成之平凸微透鏡無法達到此
要求,所以我們將要把材料改為高折射率的材料才能制作高
數值孔徑之微透鏡。我們針對鈮酸鋰和石英基板的蝕刻情況
做一比較,利用活性離子蝕刻的方式來進行蝕刻[28] [29],而
石英基板的蝕刻速率較鈮酸鋰的蝕刻速率快的許多
(在相同情況下,石英基板的蝕刻速率為每分鐘 40nm﹔鈮酸鋰的蝕刻速率為每分鐘 3nm),
而且石英基板的表面粗糙度也較鈮酸鋰的
 
表面緩和,因此我們無法用活性離子蝕刻的方式來蝕刻鈮酸
鋰,所以在未來的工作中將會使用感應式耦合電漿蝕刻機(ICP)
對鈮酸鋰進行蝕刻,以改善蝕刻速率。
 
3.對于灰階光罩之光阻與光密度之間的關系已經量測,這有利
我們著手于制作灰階光罩的資料
 
 
灰階微透鏡之掃描式電子顯微鏡圖形

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