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本文標題:"顯微鏡分析固體材料表面的顯微結(jié)構(gòu)與化學成分"

發(fā)布者:yiyi ------ 分類: 行業(yè)動態(tài) ------ 人瀏覽過-----時間:2013-4-23 17:35:15

 隨著微電子與奈米科技的發(fā)展,材料的結(jié)構(gòu)尺寸不斷地趨于淺薄細微,使得其表面與介面特性的影響度

相對地大幅提高。因此精確量測及分析奈米結(jié)構(gòu)的表面和物體介面的物理化學特性,
是加速此研究領(lǐng)域發(fā)展極為重要的工作。X 光光電子能譜術(shù)(X-ray PhotoelectronSpectroscopy, XPS, 
或稱為化學分析電子能譜術(shù),Electron Spectroscopy for Chemical Analysis, ESCA)為
分析固體材料表面的電子結(jié)構(gòu)與化學成分之重要方法。它除了有很高的表面靈敏度以及甚佳的化學分析能力,光
子輻射線對于物質(zhì)的破壞性較低且電荷的累積效應也較輕微,因此被廣泛地應用于金屬,半導體,非導體以及
有機材料的研究。XPS 之分析功能是藉著各化合物不同化學結(jié)合狀態(tài)產(chǎn)生之位移 
(Chemical state or bonding shift) 來測量的。一般的 ESCA 分析儀器因 X 光光源強度不足,
難以做細微的局部化學分析,在目前商業(yè)產(chǎn)品中有改良式電子透鏡的 ESCA 偵測系統(tǒng),但空間解析度
仍難超越 3 微米左右,其區(qū)域解析功能甚為有限。

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